Ultrasonik sprey örtük atomizatoru çiləmə, biologiya, kimya sənayesi və tibbi müalicədə istifadə olunan atomizasiya avadanlığına aiddir.Onun əsas prinsipi: əsas dövrə lövhəsindən gələn salınım siqnalı yüksək güclü triod tərəfindən gücləndirilən və ultrasəs çipinə ötürülən enerjidir.Ultrasonik çip elektrik enerjisini ultrasəs enerjisinə çevirir.Ultrasəs enerjisi suda həll olunan dərmanları otaq temperaturunda kiçik duman hissəciklərinə atomlaşdıra bilər, mühit olaraq su ilə, Suda həll olunan dərman məhlulu ultrasəs yönlü təzyiqlə duman içərisinə püskürür və maye daxili sıxılmış hava təzyiqi ilə atomlaşdırılır.

Şirkətimiz müxtəlif ultrasəs avadanlığının, xüsusən də masaüstü ultrasəs dəqiq çiləmə maşınının xüsusi istehsalında ixtisaslaşmış ultrasəs avadanlığı istehsalçısıdır.Bu avadanlıq həmçinin müştəri tələblərinə uyğun olaraq dəyişdirilə bilər, məsələn, 12 püskürtmə başlığı, 6 püskürtmə başlığı və s. Bu məhsul birləşən ultrasəs başlığı ilə təchiz oluna bilən kiçik ultrasəs püskürtmə avadanlığıdır. dəqiq ölçmə nasosu və sıxılmış hava nəzarəti ilə, elmi tədqiqat laboratoriyasında və kiçik sahəli çiləmə üsulu istehsalı və hazırlanmasında AR-GE üçün uyğundur.Ultrasəs püskürtmə, ultrasəs atomizasiya nozzle texnologiyasına əsaslanan çiləmə üsuludur.Ənənəvi pnevmatik iki maye püskürtmə ilə müqayisədə, ultrasəs atomizasiya çiləmə üsulu daha yüksək vahidlik, daha incə örtük qalınlığı və daha yüksək dəqiqlik gətirə bilər.Eyni zamanda, ultrasəs başlığı hava təzyiqinin köməyi olmadan atomize ola bildiyi üçün, ultrasəs püskürtmə, boya israfını əhəmiyyətli dərəcədə azaltmaq üçün çiləmə prosesinin yaratdığı boya sıçramasını xeyli azalda bilər.Ultrasonik çiləmə üsulu ilə boya istifadə dərəcəsi ənənəvi iki maye çiləmə üsulundan 4 dəfə çoxdur.

Püskürtmə avadanlığı Ar-Ge və müxtəlif nano və submikron funksional örtük filmlərinin istehsalına tətbiq edilə bilər, məsələn, proton mübadilə membranı yanacaq hüceyrəsi membran elektrodunun püskürtülməsi və perovskite günəş batareyaları kimi yeni enerji sahəsində nazik film günəş batareyası püskürməsi kimi , üzvi günəş batareyaları, şəffaf keçirici filmlər və s.;Biotibb sahəsində biosensor örtüyünün püskürtülməsi, mikroelektronika və yarımkeçiricilər sahəsində vafli fotorezist çiləmə və elektron lövhə axınının püskürtülməsi, AR antireflection və əks əks etdirən plyonka çiləmə, hidrofilik örtük çiləmə, hidrofobik örtük çiləmə, istilik izolyasiya plyonka keçirici çiləmə, şüşə örtük sahəsi, toxunmamış parçalar və tekstil sahəsində superhidrofobik örtüklə çiləmə antibakterial örtüklə çiləmə və s.

Adi çiləmə: maye materialı dağıtmaq üçün yüksək sürətli hava axınından istifadə edin və substratın üzərinə püskürtün.

Ultrasəs püskürtmə: maye materialı dağıtmaq üçün ultrasəsin yüksək tezlikli vibrasiyasından istifadə edin və hava axınının sürətləndirilməsi ilə substrata püskürtün.

Ultrasonik püskürtmə əsasən vahiddir və film qalınlığı mikron səviyyəsində idarə edilə bilər.Hazırda bir çox yerli yanma batareyaları ultrasəs çiləmə üsulundan istifadə edir.